SID2007で、ソニーが大型ELパネルの製法について発表したそうです。
特に注目すべきは、そのRGBパターニング法です。
「Laser Induced Pattern wise Sublimation(LIPS)」と名付けられたレーザ転写法を使っているそうです。
（余談ですが、wiseで正しいのかな？スペースなしでPatternwiseのような気が．．．）
これは、低分子の発光材料をガラス基板に成膜した「ドナー基板」を目的とする基板に合わせ、ドナー基板裏面からレーザーを選択照射することで部分的に材料を昇華・蒸着させる方法です。
これまでにも、似たような研究例はあるのですが、大面積の生産ラインでできるようになったんですね。
有機エレクトロニクス業界では、ウェットプロセスが過大評価されているとMNは考えています。ドライプロセスのメリットは沢山あり、しかも決して大面積低コストに向かないってことはないと思います。
蒸着でできることは蒸着で！
MN
